Thermal annealing effects on the interface state density of MOS capacitors with ECR-PECVD SiO2 (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Thermal annealing effects on the interface state density of MOS capacitors with ECR-PECVD SiO2 (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • L. Maiolo, A. Pecora, M. Cuscunà and G. Fortunato (2006)
    Thermal annealing effects on the interface state density of MOS capacitors with ECR-PECVD SiO2
    in Proceedings of E-MRS, Nice
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • L. Maiolo, A. Pecora, M. Cuscunà and G. Fortunato (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note
  • Spring Meeting, May 29- June 2, 2006, Nice, France (literal)
Titolo
  • Thermal annealing effects on the interface state density of MOS capacitors with ECR-PECVD SiO2 (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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