Structure and growth mechanism of ultra-thin and thin SiO2 films deposited by RF Magnetron Sputtering (Contributo in atti di convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Contributo in atti di convegno (Classe)

Label

• Structure and growth mechanism of ultra-thin and thin SiO2 films deposited by RF Magnetron Sputtering (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Quartarone E., Infante Garcia M., Mustarelli P., Marabelli F. (2004)
  Structure and growth mechanism of ultra-thin and thin SiO2 films deposited by RF Magnetron Sputtering
  in VII Convegno Nazionale Materiali Nanofasici, Roma, 16-17 Settembre 2004
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Quartarone E., Infante Garcia M., Mustarelli P., Marabelli F. (literal)

Titolo

• Structure and growth mechanism of ultra-thin and thin SiO2 films deposited by RF Magnetron Sputtering (literal)

Prodotto di

• Materiali metallici e ceramici per l'accumulo, la produzione e la distribuzione dell'energia (ET.P06.009.004) (Modulo)
• Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia (ICMATE) (Istituto)

Autore CNR

• PIERCARLO MUSTARELLI (Unità di personale esterno)
• ELIANA QUARTARONE (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia (ICMATE) (Istituto)
• Materiali metallici e ceramici per l'accumulo, la produzione e la distribuzione dell'energia (ET.P06.009.004) (Modulo)

Autore CNR di

• PIERCARLO MUSTARELLI (Unità di personale esterno)
• ELIANA QUARTARONE (Unità di personale esterno)