Hydrophobic effect of surface patterning on Si surface (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Hydrophobic effect of surface patterning on Si surface (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.wear.2009.09.005 (literal)

Alternative label

• D. Marchetto; A. Rota; L. Calabri; G. C. Gazzadi; C. Menozzi; S. Valeri (2010)
  Hydrophobic effect of surface patterning on Si surface
  in Wear ( Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• D. Marchetto; A. Rota; L. Calabri; G. C. Gazzadi; C. Menozzi; S. Valeri (literal)

Pagina inizio

• 488 (literal)

Pagina fine

• 492 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 268 (literal)

Rivista

• Wear (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 5 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 3-4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Dipartimento di Fisica, Università di Modena e Reggio Emilia, Via Campi 213/A, 41125 Modena, Italy. CNR-INFM National Research Center S3, Via Campi 213/A, 41125 Modena, Italy. (literal)

Titolo

• Hydrophobic effect of surface patterning on Si surface (literal)

Abstract

• Adhesion and friction force between flat Si tip and nano-patterned Si surface have been investigated by atomic force microscopy (AFM) in air and high vacuum conditions (10(-5) Tort) at room temperature (RT) and at 180 degrees C. The pattern consists of parallel grooves realized on a Si(0 0 1) single crystal by focused ion beam (FIB) milling. The FIB technique was also used to modify a commercial AFM Si probe in order to obtain a flat tip, suitable for tribological characterization of patterned surfaces, since it presents an extended contact area. In high vacuum the coefficient of friction (CoF) on the pristine surface is about 64% lower than in ambient condition, related to the presence of a water meniscus. The situation is completely different on the patterned surface where CoF does not change appreciably in the different analyzed conditions. The adhesive force related to the presence of a water layer is lower on the patterned surface with respect to the pristine surface. These findings suggest that patterning induces a hydrophobic character to the Si surface. (literal)

Prodotto di

• Nanofabbricazione e fenomeni di superficie interfaccia alla nanoscala (MD.P06.013.002) (Modulo)

Autore CNR

• GIANCARLO GAZZADI (Persona)
• CLAUDIA MENOZZI (Unità di personale esterno)
• ALBERTO ROTA (Unità di personale esterno)
• SERGIO VALERI (Persona)

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Autore CNR di

• SERGIO VALERI (Persona)
• GIANCARLO GAZZADI (Persona)
• CLAUDIA MENOZZI (Unità di personale esterno)
• ALBERTO ROTA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Nanofabbricazione e fenomeni di superficie interfaccia alla nanoscala (MD.P06.013.002) (Modulo)

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• Wear (Rivista)