Substrate heating influence on the deposition rate of oxides during pulsed laser deposition in ambient gas (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Substrate heating influence on the deposition rate of oxides during pulsed laser deposition in ambient gas (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Amoruso, S; Aruta, C; Bruzzese, R; Wang, X; di Uccio, US (2011)
  Substrate heating influence on the deposition rate of oxides during pulsed laser deposition in ambient gas
  in Applied physics letters
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Amoruso, S; Aruta, C; Bruzzese, R; Wang, X; di Uccio, US (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 98 (literal)

Rivista

• Applied physics letters (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• Substrate heating influence on the deposition rate of oxides during pulsed laser deposition in ambient gas (literal)

Prodotto di

• Crescita e caratterizzazioni magnetiche, ottiche e di trasporto di film e multistrati epitassiali o nanostrutturati (MD.P04.025.002) (Modulo)

Autore CNR

• CARMELA ARUTA (Persona)
• XUAN WANG (Unità di personale interno)
• UMBERTO SCOTTI DI UCCIO (Persona)
• RICCARDO BRUZZESE (Persona)
• SALVATORE AMORUSO (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Autore CNR di

• CARMELA ARUTA (Persona)
• XUAN WANG (Unità di personale interno)
• SALVATORE AMORUSO (Unità di personale esterno)
• UMBERTO SCOTTI DI UCCIO (Persona)
• RICCARDO BRUZZESE (Persona)

Prodotto

• Crescita e caratterizzazioni magnetiche, ottiche e di trasporto di film e multistrati epitassiali o nanostrutturati (MD.P04.025.002) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Applied physics letters (Rivista)