Fabrication of Fractal Surfaces by Electron Beam Lithography (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Fabrication of Fractal Surfaces by Electron Beam Lithography (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1109/TNANO.2009.2027232 (literal)

Alternative label

• P. Stoliar, A. Calò, F. Valle, F. Biscarini (2010)
  Fabrication of Fractal Surfaces by Electron Beam Lithography
  in IEEE transactions on nanotechnology
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• P. Stoliar, A. Calò, F. Valle, F. Biscarini (literal)

Pagina inizio

• 229 (literal)

Pagina fine

• 236 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 9 (literal)

Rivista

• IEEE transactions on nanotechnology (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 2 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• (1) Consiglio Nazionale delle Ricerche - Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati - Bologna (literal)

Titolo

• Fabrication of Fractal Surfaces by Electron Beam Lithography (literal)

Abstract

• We describe a method based on electron beam lithography to fabricate patterns of fractal islands on a surface. The island morphology resembles that of a random deposition of particles in a diffusion-limited aggregation regime in 2-D, which is often encountered in the growth of atoms and molecules upon ultrahigh vacuum sublimation. With our fabrication protocol, the morphological parameters of the fractal islands (correlation length, fractal dimension, coverage, and roughness) can be controlled. The fabricated structures can be used as templates for investigating the interplay of self-affinity on thin film nucleation and growth, the adsorption of functional molecules, and the anchoring of living cells. Also they can be exploited as masters for nanoimprinting lithography and replica molding. (literal)

Prodotto di

• Nanofabbricazione di sistemi funzionali complessi (PM.P05.010.003) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)

Autore CNR

• ANNALISA CALO' (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO VALLE (Persona)
• PABLO ALBERTO STOLIAR (Unità di personale interno)
• FABIO BISCARINI (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Nanofabbricazione di sistemi funzionali complessi (PM.P05.010.003) (Modulo)

Autore CNR di

• ANNALISA CALO' (Unità di personale esterno)
• PABLO ALBERTO STOLIAR (Unità di personale interno)
• FRANCESCO VALLE (Persona)
• FABIO BISCARINI (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• IEEE transactions on nanotechnology (Rivista)