Influence of growth parameters on properties of electroceramic thin films grown via MO-CVD (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Influence of growth parameters on properties of electroceramic thin films grown via MO-CVD (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2002-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1016/S1369-8001(02)00090-2 (literal)
Alternative label
  • Padeletti G., Viticoli M., Cusmà A., Ingo G.M., Santoni A., Loreti S., Minarini C., Viticoli S. (2002)
    Influence of growth parameters on properties of electroceramic thin films grown via MO-CVD
    in Materials science in semiconductor processing; Pergamon-Elsevier Press Science LDT, Oxford (Regno Unito)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Padeletti G., Viticoli M., Cusmà A., Ingo G.M., Santoni A., Loreti S., Minarini C., Viticoli S. (literal)
Pagina inizio
  • 105 (literal)
Pagina fine
  • 114 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 5 (literal)
Rivista
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
  • 10 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo
  • 2-3 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • G. Padeletti [1], M. Viticoli [1,2], A. Cusmà [1,3], G.M. Ingo [1], A. Santoni [4], S. Loreti [4], C. Minarini [5], S. Viticoli [1] [1] ISMN CNR, Area della Ricerca di Roma 1, via Salaria Km 29.3, 00015 Monterotondo, Rome, Italy [2] Catania Univ, Dipartimento Chim, I-90125 Catania, Italy [3] Università Roma Tor Vergata, Dipartimento Scienze Tecnologie Chimiche, I-00100 Rome, Italy [4] Enea Centro Ricerca Frascati, I-00044 Rome, Italy [5] Enea Centro Ricerca Portici, I-80055 Naples, Italy (literal)
Titolo
  • Influence of growth parameters on properties of electroceramic thin films grown via MO-CVD (literal)
Abstract
  • In the last years, zirconium titanate thin films ZrxTi(1-x)O4 (ZT) turned out to have very interesting dielectric properties, which suggest a use in microvawe integrated systems. In this work, the synthesis and characterization of ZT thin films grown by MO-CVD are described, giving emphasis to the study of their structural, chemical and physical properties, with relation to the different process parameters applied. All samples analysed by XRD, AFM, SEM and EDS, show a great dependence on substrate temperature and reactor pressure on the kinetic of growth as well as on the chemical, crystallographic, morphological and microstructural features. (literal)
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