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Detection of subwavelength slit-width variation with irradiance measurements in the far field (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Detection of subwavelength slit-width variation with irradiance measurements in the far field (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2002-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Alternative label
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Selci S. 1, Righini M. 1 (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url
- http://ol.osa.org/abstract.cfm?URI=ol-27-22-1971 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
- Rivista
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto
- Nellambito delle Microscopie a scansione, grande risalto viene dato alle microscopie ottiche risolte a superrisoluzione (cioè, con risoluzione migliore del limite di diffrazione, pari a circa a metà della lunghezza donda utilizzata). La più nota di tali tecniche, consolidata e disponibile commercialmente, è la microscopia SNOM. Tuttavia, cè lesigenza di tecniche di indagine più semplici e veloci, adatti anche alla caratterizzazione di materiali nanostrutturati anche in ambito industriale. Perciò, è stata realizzata una nuova tecnica di indagine ottica per cui è stato depositato un brevetto (Microscopio a scansione a diffrazione di tipo ottico, M. Righini, S. Selci, brevetto n. RM99A000270 depositato dal CNR il 30/04/1999). Nonostante i risultati ottenuti, una teoria completa era ancora mancante. Come primo passo a cui ne sono seguiti altri, larticolo proposto indaga lo studio della classica diffrazione da fenditura. Nonostante largomento sia ovviamente ben noto, è risultato sorprendentemente originale laffermazione secondo la quale una variazione nanometrica di una fenditura in condizioni di diffrazione standard (apertura molto maggiore della lunghezza donda utilizzata, circa 1 micron) produce ben misurabili variazioni della diffrazione anche se effettuata in campo lontano (centimetri), solo apparentemente violando il limite di diffrazione. Tale studio è risultato fondamentale per una teoria sistematica del nuovo strumento, in corso di perfezionamento. (literal)
- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
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- Istituto dei Sistemi Complessi (literal)
- Titolo
- Detection of subwavelength slit-width variation with irradiance measurements in the far field (literal)
- Abstract
- We demonstrate that, under suitable conditions, subwavelength feature variations of an object can affect the corresponding far-field diffraction pattern in a measurable way. We present an experiment in which width
variations of less than 1/100 of the wavelength are measured with a slit whose width is 100 times the wavelength.
Integral and differential intensity measurements in the far field are fully consistent with standard diffraction theory even in the subwavelength variation regime. In particular, slit modulations of 6 nm with a wavelength of 670 nm are shown to follow theoretical calculations within the experimental sensitivity of ~10^(-5). © 2002 Optical Society of America (literal)
- Prodotto di
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