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Patterning nonanethiol protected gold films by barium atoms (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Patterning nonanethiol protected gold films by barium atoms (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1007/s00340-004-1625-0 (literal)
- Alternative label
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Andrea Camposeo; Andrea Fioretti; Francesco Tantussi; Silvia Gozzini; Ennio Arimondo; Carlo Gabbanini (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- Rivista
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- INFM, Dipartimento di Fisica E. Fermi, Università di Pisa, Via F. Buonarroti 2, 56127 Pisa, Italy
Istituto per i Processi Chimico-Fisici del C.N.R., via Moruzzi 1, 56124, Pisa, Italy (literal)
- Titolo
- Patterning nonanethiol protected gold films by barium atoms (literal)
- Abstract
- Self assembled monolayers (SAM) formed fromnonanethiols on thin gold
films were exposed to a beam of ground state and metastable neutral barium atoms
through a nickel mask. The interaction of the Ba atoms with the nonanethiol layer,
followed by an etching process, creates well defined structures on the gold film, with
features below 100 nm. We compared the interaction of ground state Ba atoms and
SAM molecules with respect to metastable Ba atoms, finding that by using metastable
atoms the Ba dose per SAM molecule is reduced. The results indicate that nanofabrication
in the nanometer range with barium atoms is feasible. (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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