Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.mee.2010.11.034 (literal)

Alternative label

• Ferri M, Suriano F, Roncaglia A, Solmi S, Cerofolini GF, Romano E, Narducci D . (2011)
  Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology
  in Microelectronic engineering
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Ferri M, Suriano F, Roncaglia A, Solmi S, Cerofolini GF, Romano E, Narducci D . (literal)

Pagina inizio

• 877 (literal)

Pagina fine

• 881 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2010.11.034 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 88 (literal)

Rivista

• Microelectronic engineering (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 5 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Ferri M, Suriano F, Roncaglia A, Solmi S: CNR IMM Cerofolini GF, Romano E, Narducci D: Università di Milano Bicocca (literal)

Titolo

• Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology (literal)

Abstract

• A process is developed for the fabrication of vertically arranged poly-silicon nanowires via a rigorously top-down batch process. The technique allows the production of wire arrays with larger linear density (projected on the surface) than those achievable with any of the other proposed top-down processes. (literal)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sintesi e caratterizzazione di materiali nanostrutturati a base di C e Si per applicazioni in sensoristica e nanoelettronica (MD.P05.017.001) (Modulo)

Autore CNR

• FRANCESCO SURIANO (Unità di personale esterno)
• SANDRO SOLMI (Unità di personale interno)
• ALBERTO RONCAGLIA (Persona)
• MATTEO FERRI (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sintesi e caratterizzazione di materiali nanostrutturati a base di C e Si per applicazioni in sensoristica e nanoelettronica (MD.P05.017.001) (Modulo)

Autore CNR di

• SANDRO SOLMI (Unità di personale interno)
• FRANCESCO SURIANO (Unità di personale esterno)
• ALBERTO RONCAGLIA (Persona)
• MATTEO FERRI (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Microelectronic engineering (Rivista)