Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.tsf.2006.11.050 (literal)

Alternative label

• Lo Nigro R, Toro RG, Malandrino G, Fragala IL, Fiorenza P, Raineri V (2007)
  Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates
  in Thin solid films (Print)
  (literal)

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• Lo Nigro R, Toro RG, Malandrino G, Fragala IL, Fiorenza P, Raineri V (literal)

Pagina inizio

• 6470 (literal)

Pagina fine

• 6473 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 515 (literal)

Rivista

• Thin solid films (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, I-95121 Catania, Italy; Univ Catania, Dipartimento Sci Chim, I-95125 Catania, Italy; INSTM UdR, I-95125 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates (literal)

Abstract

• Calcium copper titanate, CaCU3Ti4O12 (CCTO), thin films have been fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition on silicon substrates buffered with two different low-k interlayers, namely SiO2 and Si3N4. Depositions have been carried out from a molten mixture consisting of the Ca (hfa)2 center dot tetraglyme, Ti(tmhd)(2)(O-iPr)(2), and Cu(tmhd)(2) [Hhfa=1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione; tetraglyme=2,5,8,11,14-pentaoxapentadecane; Htmhd=2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptandione; O-iPr=iso-propoxide] precursors. The chemical stability of CCTO films on both the SiO2 and Si3N4 low-k layers has been investigated by transmission electron microscopy in the perspective of their implementation in capacitor devices. (literal)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)

Autore CNR

• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• PATRICK FIORENZA (Persona)
• VITO RAINERI (Persona)
• ROBERTA GRAZIA TORO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• VITO RAINERI (Persona)
• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• PATRICK FIORENZA (Persona)
• ROBERTA GRAZIA TORO (Unità di personale interno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)

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• Thin solid films (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates" (Insieme di parole chiave)