Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1111/j.1365-2818.2007.01817.x (literal)

Alternative label

• Armigliato A, Balboni R, Rosa R (2007)
  Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films
  in Journal of microscopy (Print); Blackwell Publishing, Oxford (Regno Unito)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Armigliato A, Balboni R, Rosa R (literal)

Pagina inizio

• 1 (literal)

Pagina fine

• 10 (literal)

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• 228 (literal)

Rivista

• Journal of microscopy (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 10 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1 (literal)

Note

• Scopu (literal)
• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, Sez Bologna, I-40129 Bologna, Italy; Univ Bologna, Dipartimento Sci & Stat, I-40126 Bologna, Italy (literal)

Titolo

• Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films (literal)

Abstract

• We applied the parametric bootstrap to the X-ray microanalysis of Si-Ge binary alloys, in order to assess the dependence of the Ge concentrations and the local film thickness, obtained by using previously described Monte Carlo methods, on the precision of the measured intensities. We show how it is possible by this method to determine the statistical errors associated with the quantitative analysis performed in sample regions of different composition and thickness, but by conducting only one measurement. We recommend the use of the bootstrap for a broad range of applications for quantitative microanalysis to estimate the precision of the final results and to compare the performances of different methods to each other. Finally, we exploited a test based on bootstrap confidence intervals to ascertain if, for given X-ray intensities, different values of the estimated composition in two points of the sample are indicative of an actual lack of homogeneity. (literal)

Editore

• Blackwell Publishing (Editore)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di Modelli Fisici, Simulazioni e Tecniche di Caratterizzazione per le Nanoscienze (MD.P05.004.001) (Modulo)

Autore CNR

• ALDO ARMIGLIATO (Persona)
• ROBERTO BALBONI (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• ROBERTO BALBONI (Unità di personale interno)
• ALDO ARMIGLIATO (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di Modelli Fisici, Simulazioni e Tecniche di Caratterizzazione per le Nanoscienze (MD.P05.004.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of microscopy (Rivista)

Editore di

• Blackwell Publishing (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Application of the parametric bootstrap method to determine statistical errors in quantitative X-ray microanalysis of thin films" (Insieme di parole chiave)