Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.physe.2006.06.009 (literal)

Alternative label

• Scalese S; Scuderi V; Simone F; Pennisi A; Compagnini G; Bongiorno C; Privitera V (2007)
  Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters
  in Physica. E, Low-dimensional systems and nanostructures (Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Scalese S; Scuderi V; Simone F; Pennisi A; Compagnini G; Bongiorno C; Privitera V (literal)

Pagina inizio

• 231 (literal)

Pagina fine

• 235 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 37 (literal)

Rivista

• Physica. E, Low-dimensional systems and nanostructures (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 5 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1-2 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, I-95121 Catania, Italy; Univ Catania, Dipartimento Fis & Astron, I-95125 Catania, Italy; Univ Catania, Dipartimento Sci Chim, I-95125 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters (literal)

Abstract

• Carbon aligned nanocolumns are grown on Si substrates by means of the radiofrequency (RF)-magnetron sputtering technique. The structural and chemical characterization is reported, showing that a considerable arnount of nitrogen, introduced during the deposition process, is contained in the C nanostructures determining the columnar shape. In particular, it is shown that some deposition parameters, such as the gas used for sputtering, the temperature and the RF power, influence the shape and the nitrogen-to-carbon [N]/[C] concentration ratio in the C nanostructures. (literal)

Prodotto di

• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• VITTORIO PRIVITERA (Persona)
• Viviana Scuderi (Persona)
• SILVIA SCALESE (Persona)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• VITTORIO PRIVITERA (Persona)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)
• SILVIA SCALESE (Persona)
• Viviana Scuderi (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Physica. E, Low-dimensional systems and nanostructures (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters" (Insieme di parole chiave)