Nanoisland shape relaxation mechanism (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Nanoisland shape relaxation mechanism (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.susc.2006.09.035, (literal)

Alternative label

• La Magna A (2007)
  Nanoisland shape relaxation mechanism
  in Surface science
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• La Magna A (literal)

Pagina inizio

• 308 (literal)

Pagina fine

• 314 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0039602806010363 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 601 (literal)

Rivista

• Surface science (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, I-95121 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Nanoisland shape relaxation mechanism (literal)

Abstract

• The shape relaxation of supported crystallites is studied by means of kinetic Monte Carlo simulations, initialising the system with different configurations. At low temperature, when the facet nucleation limits the relaxation, the simulations show that the equilibration mechanism and the equilibration time scaling laws depend strongly on the initialisation. In this regime, the adhesion strongly increases the stability of intermediate configurations with large contact area. The relationship between the different equilibration pathways and the equilibration scaling laws is discussed considering the dependence of the nucleation barrier energy G* on the particle energetics in the regions with the largest kinks and steps density. (literal)

Prodotto di

• modelli e metodi numerici per la micro e nano elettronica (MD.P05.005.002) (Modulo)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

Autore CNR

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)

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Autore CNR di

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)
• modelli e metodi numerici per la micro e nano elettronica (MD.P05.005.002) (Modulo)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Surface science (Rivista)