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n(+)/p diodes realized in SiC by phosphorus ion implantation: Electrical characterization as a function of temperature (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- n(+)/p diodes realized in SiC by phosphorus ion implantation: Electrical characterization as a function of temperature (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.4028/www.scientific.net/MSF.483-485.649 (literal)
- Alternative label
Canino M., Castaldini A., Cavallini A., Moscatelli F., Nipoti R., Poggi A. (2005)
n(+)/p diodes realized in SiC by phosphorus ion implantation: Electrical characterization as a function of temperature
in Materials science forum; TRANS TECH PUBLICATIONS LTD, LAUBLSRUTISTR 24, CH-8717 STAFA-ZURICH (Svizzera)
(literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Canino M., Castaldini A., Cavallini A., Moscatelli F., Nipoti R., Poggi A. (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- Congresso data AUG 31-SEP 04, 2004
Congresso luogo Bologna, ITALY
Congresso nome 5th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
Congresso relazione Contributo
Congresso rilevanza Internazionale
Curatore/i del volume Roberta Nipoti, Antonella Poggi and Andrea Scorzoni
Titolo del volume Silicon Carbide and Related Materials 2004 (literal)
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- http://www.scientific.net/MSF.483-485.649 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#titoloVolume
- Silicon Carbide and Related Materials 2004 (literal)
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- Rivista
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- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- Univ Bologna, I-40126 Bologna, Italy; CNR, IMM, Sez Bologna, I-40129 Bologna, Italy; Univ Perugia, DIEI, I-06125 Perugia, Italy (literal)
- Titolo
- n(+)/p diodes realized in SiC by phosphorus ion implantation: Electrical characterization as a function of temperature (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#curatoriVolume
- Roberta Nipoti, Antonella Poggi and Andrea Scorzoni (literal)
- Abstract
- n+/p diodes have been realized by 300°C phosphorus ion implantation and subsequent annealing at 1300°C. An electrical characterization of the devices as well as a study of the defects introduced by the implantation process has been made. I-V measurements pointed out that the diodes maintain a good rectifying behavior up to 737K. DLTS analyses detected the presence of three traps, T2, T3 and T4, which are not due to the implantation process, and a high energy trap, T5, that could be related to the surface states at the Ni/SiC interface. (literal)
- Editore
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