MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2002-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1039/b201716b (literal)

Alternative label

• Lo Nigro R.1 , Malandrino G. 2, Fragalà I.L. 2, Bettinelli M. 3, Speghini A. 3 (2002)
  MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy
  in Journal of materials chemistry (Print); The Royal Society of Chemistry, Cambridge (Regno Unito)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Lo Nigro R.1 , Malandrino G. 2, Fragalà I.L. 2, Bettinelli M. 3, Speghini A. 3 (literal)

Pagina inizio

• 2816 (literal)

Pagina fine

• 2819 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 12 (literal)

Rivista

• Journal of materials chemistry (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1 Consiglio Nazionale delle Ricerche - Istituto per la Microelettronica e Microsistemi 2 Dipartimento di Scienze Chimiche, Università degli Studi di Catania 3 Dipartimento Scientifico e Tecnologico, Universita` di Verona (literal)

Titolo

• MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy (literal)

Abstract

• CeF3 thin films have been deposited on Si(100) substrates by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). The Ce(hfa)3diglyme [Hhfa = 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione, diglyme = (CH3O(CH2CH2O)2CH3)] precursor has been adopted as a single source for both Ce and F components. This adduct has proved to be a good and reliable precursor, suitable for evaporation from the liquid phase due to its rather low melting point (75 °C). The structural, compositional, morphological and spectroscopic properties of the films have been investigated by X-ray diffraction (XRD), wavelength dispersion X-ray analysis (WDX), scanning electron microscopy (SEM) and luminescence spectroscopy. (literal)

Editore

• The Royal Society of Chemistry (Editore)

Prodotto di

• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)

Autore CNR di

• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of materials chemistry (Rivista)

Editore di

• The Royal Society of Chemistry (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "MOCVD of CeF3 films on Si (100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy" (Insieme di parole chiave)