Modelling of capacitively coupled RF plasmas in H2 (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Modelling of capacitively coupled RF plasmas in H2 (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2009-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1002/ppap.200800219 (literal)
Alternative label
  • S. Longo, P. Diomede (2009)
    Modelling of capacitively coupled RF plasmas in H2
    in Plasma processes and polymers (Print)
    (literal)
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  • S. Longo, P. Diomede (literal)
Pagina inizio
  • 370 (literal)
Pagina fine
  • 379 (literal)
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  • Questo lavoro, su invito, apparso su un numero speciale della rivista dedicato al Plasma Modelling, include il primo esempio in letteratura di un modello scarica a doppia frequenza in un gas molecolare. (literal)
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  • 6 (literal)
Rivista
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  • 10 (literal)
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  • 5 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
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  • Universita' di Bari (literal)
Titolo
  • Modelling of capacitively coupled RF plasmas in H2 (literal)
Abstract
  • Hydrogen is the main component of many feeding mixtures used for plasma processing. Despite this, the physics and chemistries of the parallel plate, capacitively coupled, radio frequency discharges in pure hydrogen are not yet fully understood. The state of the art of the modeling of this system is analyzed, including the problems posed by the electron and ion reactions, the ion heating, the chemistry of excited molecules, the non-equilibrium distributions, the surface catalytic reactions, the double frequency discharge effects. Specific points are illustrated using new results obtained by a self-consistent kinetic model developed in the last 10 years. A concluding discussion summarizes the achievements and open problems of the field. (literal)
Prodotto di
Autore CNR
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