Negative Ion Source Modeling: from Expansion to Extraction Region (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Negative Ion Source Modeling: from Expansion to Extraction Region (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• F. Taccogna, S. Longo, M. Capitelli, R. Schneider (2008)
  Negative Ion Source Modeling: from Expansion to Extraction Region
  in IEEE transactions on plasma science
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• F. Taccogna, S. Longo, M. Capitelli, R. Schneider (literal)

Pagina inizio

• 1589 (literal)

Pagina fine

• 1599 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 36 (literal)

Rivista

• IEEE transactions on plasma science (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• Negative Ion Source Modeling: from Expansion to Extraction Region (literal)

Prodotto di

• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• MARIO CAPITELLI (Persona)
• SAVINO LONGO (Persona)
• FRANCESCO TACCOGNA (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR di

• FRANCESCO TACCOGNA (Persona)
• SAVINO LONGO (Persona)
• MARIO CAPITELLI (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• IEEE transactions on plasma science (Rivista)