A Study of the Growth Mechanism of Microcristalline Thin Silicon Films Deposited at Low Temperature by SiF4-H2 PECVD (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• A Study of the Growth Mechanism of Microcristalline Thin Silicon Films Deposited at Low Temperature by SiF4-H2 PECVD (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A. Grimaldi, P. Capezzuto, G. Bruno (2004)
  A Study of the Growth Mechanism of Microcristalline Thin Silicon Films Deposited at Low Temperature by SiF4-H2 PECVD
  
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A. Grimaldi, P. Capezzuto, G. Bruno (literal)

Pagina inizio

• 187 (literal)

Pagina fine

• 192 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 26 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• A Study of the Growth Mechanism of Microcristalline Thin Silicon Films Deposited at Low Temperature by SiF4-H2 PECVD (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)