Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • M. Losurdo, M.M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, D. Barreca, A. Gasparotto, E. Tondello (2004)
    Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • M. Losurdo, M.M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, D. Barreca, A. Gasparotto, E. Tondello (literal)
Pagina inizio
  • 227 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 786 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Titolo
  • Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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