An ambient air RF low-pressure pulsed discharge as an OH source for LIF calibration (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• An ambient air RF low-pressure pulsed discharge as an OH source for LIF calibration (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G. Dilecce,P.F. Ambrico,S. De Benedictis (2004)
  An ambient air RF low-pressure pulsed discharge as an OH source for LIF calibration
  in Plasma sources science & technology (Print)
  (literal)

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• G. Dilecce,P.F. Ambrico,S. De Benedictis (literal)

Pagina inizio

• 237 (literal)

Pagina fine

• 244 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 13 (literal)

Rivista

• Plasma sources science & technology (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• An ambient air RF low-pressure pulsed discharge as an OH source for LIF calibration (literal)

Prodotto di

• Dinamica dei processi atomici e molecolari (MD.P03.026.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• SANTOLO DE BENEDICTIS (Unità di personale interno)
• GIORGIO DILECCE (Unità di personale interno)
• PAOLO FRANCESCO AMBRICO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica dei processi atomici e molecolari (MD.P03.026.001) (Modulo)

Autore CNR di

• SANTOLO DE BENEDICTIS (Unità di personale interno)
• GIORGIO DILECCE (Unità di personale interno)
• PAOLO FRANCESCO AMBRICO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Plasma sources science & technology (Rivista)