Interface quality of atomic layer deposited La-doped ZrO2 films on gepassivated In0.15Ga0.85As substrates (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Interface quality of atomic layer deposited La-doped ZrO2 films on gepassivated In0.15Ga0.85As substrates (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • Molle, Alessandro; Brammertz, Guy B.; Lamagna, Luca; Spiga, Sabina; Meuris, Marc M.; Fanciulli, Marco (2010)
    Interface quality of atomic layer deposited La-doped ZrO2 films on gepassivated In0.15Ga0.85As substrates
    in MRS Spring Meeting, San Francisco
    (literal)
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  • Molle, Alessandro; Brammertz, Guy B.; Lamagna, Luca; Spiga, Sabina; Meuris, Marc M.; Fanciulli, Marco (literal)
Pagina inizio
  • 65 (literal)
Pagina fine
  • 73 (literal)
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  • http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-77957789651&origin=inward (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 1194 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#volumeInCollana
  • 1194 (literal)
Rivista
Note
  • Scopu (literal)
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  • Laboratorio Nazionale MDM-INFM; Interuniversity Micro-Electronics Center at Leuven; Universita degli Studi di Milano - Bicocca (literal)
Titolo
  • Interface quality of atomic layer deposited La-doped ZrO2 films on gepassivated In0.15Ga0.85As substrates (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#isbn
  • 9781617387548 (literal)
Abstract
  • [object Object] (literal)
Prodotto di
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