ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.mseb.2003.10.058 (literal)

Alternative label

• G. Padeletti, A. Cusma, M. Viticoli, G.M. Ingo, A. Mezzi , B. Watts (2004)
  ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics
  in Materials science & engineering. B, Solid-state materials for advanced technology; ELSEVIER SCIENCE SA, PO BOX 564, 1001 LAUSANNE (Svizzera)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G. Padeletti, A. Cusma, M. Viticoli, G.M. Ingo, A. Mezzi , B. Watts (literal)

Pagina inizio

• 104 (literal)

Pagina fine

• 112 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 109 (literal)

Rivista

• Materials science & engineering. B, Solid-state materials for advanced technology (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 9 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1-3 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• G. Padeletti [1], A. Cusmà [1], M. Viticoli [1], G.M. Ingo V, A. Mezzi [1], B. Watts [2] [1] ISMN CNR, Area della Ricerca di Roma 1, via Salaria Km 29.3, 00015 Monterotondo, Rome, Italy [2] IMEM CNR, Istituto Materiali Elettron & Magnetismo, I-43010 Parma, Italy (literal)

Titolo

• ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics (literal)

Abstract

• In this work the synthesis and characterisation of ZrxTi1-xO2 (ZT) grown via a non conventional MOCVD apparatus on both silicon and platinum coated substrates are described. The samples have been chemically, morphologically and structurally characterised by AFM, XRD, SEM + FEG and XPS. Also high and low frequencies electrical characterisation has been performed to evaluate a possible application of such materials as high-k dielectrics. (C) 2003 Elsevier B.V. All rights reserved. (literal)

Editore

• ELSEVIER SCIENCE SA (Editore)

Prodotto di

• Sintesi e crescita di film e superfici nanostrutturate (PM.P05.004.002) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo (IMEM) (Istituto)

Autore CNR

• GABRIEL MARIA INGO (Unità di personale interno)
• ANTONIO CUSMA' PICCIONE CADETTO (Unità di personale interno)
• ALESSIO MEZZI (Unità di personale interno)
• MARCO VITICOLI (Persona)
• BERNARD ENRICO WATTS (Unità di personale interno)
• GIUSEPPINA PADELETTI (Persona)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo (IMEM) (Istituto)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Sintesi e crescita di film e superfici nanostrutturate (PM.P05.004.002) (Modulo)

Autore CNR di

• BERNARD ENRICO WATTS (Unità di personale interno)
• MARCO VITICOLI (Persona)
• GIUSEPPINA PADELETTI (Persona)
• GABRIEL MARIA INGO (Unità di personale interno)
• ALESSIO MEZZI (Unità di personale interno)
• ANTONIO CUSMA' PICCIONE CADETTO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Materials science & engineering. B, Solid-state materials for advanced technology (Rivista)

Editore di

• ELSEVIER SCIENCE SA (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "ZT thin films produced by metal organic-chemical vapour deposition to be used as high-k dielectrics" (Insieme di parole chiave)