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Microstructural characterisation of tungsten coatings deposited using plasma sputtering on Si substrates (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Microstructural characterisation of tungsten coatings deposited using plasma sputtering on Si substrates (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2014-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1016/j.tsf.2014.03.050 (literal)
- Alternative label
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Vassallo E.; Caniello R.; Canetti M.; Dellasega D.; Passoni M. (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84898830699&partnerID=q2rCbXpz (literal)
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- Rivista
- Note
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- Istituto di Fisica del Plasma, CNR, via R. Cozzi 53, 20125 Milano, Italy; Istituto per Lo Studio delle Macromolecole, CNR, via Bassini 15, 20133 Milano, Italy; Dipartimento di Energia, NEMAS, Politecnico di Milano, via Ponzio 34/3, 20133 Milano, Italy (literal)
- Titolo
- Microstructural characterisation of tungsten coatings deposited using plasma sputtering on Si substrates (literal)
- Abstract
- Nanostructured W thin films synthesized by RF Plasma system have been characterized. These coatings may have appeal for functional applications, e.g. in corrosion resistance and barrier film. The role of the some process parameters, like pressure and sputter gas, has been investigated. We have shown that the microstructure (? and ?-W phase) can be tuned as a function of the sputter gas and substrate pretreatment. © 2014 Elsevier B.V. All rights reserved. (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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