Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1021/la402755q (literal)

Alternative label

• Vitale, Alessandra; Quaglio, Marzia; Marasso, Simone L.; Chiodoni, Angelica; Cocuzza, Matteo; Bongiovanni, Roberta (2013)
  Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics
  in Langmuir
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Vitale, Alessandra; Quaglio, Marzia; Marasso, Simone L.; Chiodoni, Angelica; Cocuzza, Matteo; Bongiovanni, Roberta (literal)

Pagina inizio

• 15711 (literal)

Pagina fine

• 15718 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/la402755q (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 29 (literal)

Rivista

• Langmuir (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 8 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 50 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• + Department of Applied Science and Technology, Politecnico di Torino, C. so Duca degli Abruzzi 24, 10129 Torino, Italy; ? Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali, Via Giusti 9, 50121 Firenze, Italy; § Center for Space Human Robotics@PoliTo, Istituto Italiano di Tecnologia, C. so Trento 21, 10129 Torino, Italy; CNR-IMEM, Parco Area delle Scienze 37a, 43124 Parma, Italy (literal)

Titolo

• Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics (literal)

Abstract

• In this work, photocurable perfluoropolyethers (PFPEs) have been used for the fabrication of microfluidic devices by a direct photolithographic process. During this mask-assisted photopolymerization technique, the material is directly photopolymerized in the presence of a mask, avoiding the use of a master. We demonstrate the high level of control in transferring micropattern features with high density, a minimum transferred size of 15 pm, a high aspect ratio (at least up to 6.5), and complex shapes useful for microfluidic applications. Moreover, we successfully apply this technology to fabricate sealed devices; the fabrication time scale for the overall process is around 5 min. The devices are able to withstand a flow pressure of up to 3.8 bar, as required for most microfluidics. Finally, the devices are tested with a model reaction employing organic solvents. (literal)

Prodotto di

• Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo (IMEM) (Istituto)
• Nanostrutture e dispositivi da SuMBE per sensoristica e fotovoltaico: sviluppo e caratterizzazione (SP.P02.001.004) (Modulo)

Autore CNR

• MATTEO COCUZZA (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo (IMEM) (Istituto)
• Nanostrutture e dispositivi da SuMBE per sensoristica e fotovoltaico: sviluppo e caratterizzazione (SP.P02.001.004) (Modulo)

Autore CNR di

• MATTEO COCUZZA (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Langmuir (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Direct Photolithography of Perfluoropolyethers for Solvent-Resistant Microfluidics" (Insieme di parole chiave)