XRD and EXAFS studies of HfO2 crystallisation in SiO2-HfO2 films (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• XRD and EXAFS studies of HfO2 crystallisation in SiO2-HfO2 films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• N.D. Afify, G. Dalba, U. Mahendra Kumar Koppolu, C. Armellini, Y. Jestin and F. Rocca (2006)
  XRD and EXAFS studies of HfO2 crystallisation in SiO2-HfO2 films
  in Materials science in semiconductor processing
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• N.D. Afify, G. Dalba, U. Mahendra Kumar Koppolu, C. Armellini, Y. Jestin and F. Rocca (literal)

Pagina inizio

• 1043 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 9 (literal)

Rivista

• Materials science in semiconductor processing (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• XRD and EXAFS studies of HfO2 crystallisation in SiO2-HfO2 films (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Sviluppo e diagnostica ottica e spettroscopica di materiali e strutture per la fotonica (MD.P03.012.001) (Modulo)

Autore CNR

• Cristina ARMELLINI (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO ROCCA (Unità di personale esterno)
• YOANN JESTIN (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Sviluppo e diagnostica ottica e spettroscopica di materiali e strutture per la fotonica (MD.P03.012.001) (Modulo)

Autore CNR di

• FRANCESCO ROCCA (Unità di personale esterno)
• Cristina ARMELLINI (Unità di personale esterno)
• YOANN JESTIN (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Materials science in semiconductor processing (Rivista)