A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• A. Pecora, L. Maiolo, G. Fortunato, C. Caligiore (2006)
  A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD
  in Journal of non-crystalline solids
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• A. Pecora, L. Maiolo, G. Fortunato, C. Caligiore (literal)

Pagina inizio

• 1430 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 352 (literal)

Rivista

• Journal of non-crystalline solids (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Dispositivi per elettronica di larga area (MD.P05.001.001) (Modulo)

Autore CNR

• GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)
• ALESSANDRO PECORA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Autore CNR di

• ALESSANDRO PECORA (Unità di personale interno)
• GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)

Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Dispositivi per elettronica di larga area (MD.P05.001.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of non-crystalline solids (Rivista)