Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1007/s00542-013-1747-6 (literal)

Alternative label

• Lucibello, A.a, Proietti, E.a, Marcelli, R.a , Bartolucci, G.ab (2013)
  Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology
  in Microsystem technologies
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Lucibello, A.a, Proietti, E.a, Marcelli, R.a , Bartolucci, G.ab (literal)

Pagina inizio

• 845 (literal)

Pagina fine

• 851 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 19 (literal)

Rivista

• Microsystem technologies (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 7 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 6 (literal)

Note

• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• a CNR-IMM Roma, Via del Fosso del Cavaliere 100, 00133 Rome, Italy b Department of Electronics Engineering, University of Roma Tor Vergata, Via del Politecnico 1, 00133 Rome, Italy (literal)

Titolo

• Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology (literal)

Abstract

• In this work we present a novel technology for tailoring the edges of a polymer sacrificial layer by combining multiple techniques. Standard polymers like Shipley Microposit S1818 for the sacrificial layers and gold as a structural layer have been used for our purposes. As a result, oblique profiles of double clamped bridges have been obtained, characterized by an improved homogeneity of the deposited metal thickness on the edges and by a very good surface planarity. (literal)

Prodotto di

• Microsistemi ad Alta Frequenza: Tecnologie ed Affidabilità per Applicazioni di Terra e Spaziali (MD.P05.020.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• GIANCARLO BARTOLUCCI (Unità di personale esterno)
• ROMOLO MARCELLI (Persona)
• ANDREA LUCIBELLO (Unità di personale interno)
• EMANUELA PROIETTI (Persona)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• ROMOLO MARCELLI (Persona)
• EMANUELA PROIETTI (Persona)
• GIANCARLO BARTOLUCCI (Unità di personale esterno)
• ANDREA LUCIBELLO (Unità di personale interno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Microsistemi ad Alta Frequenza: Tecnologie ed Affidabilità per Applicazioni di Terra e Spaziali (MD.P05.020.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Microsystem technologies (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Smoothing and Surface Planarization of Sacrificial Layers in MEMS Technology" (Insieme di parole chiave)