Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche (Contributo in atti di convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Contributo in atti di convegno (Classe)

Label

• Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• A.Chiasera, M. Ferrari, M. Mazzola, S. Varas, E.Moser, S. Valligatla, V. Foglietti, G. Nunzi Conti, S. Pelli, G.C. Righini. (2011)
  Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche
  in FOTONICA 2011, 13° Convegno Nazionale delle Tecnologie Fotoniche, Genova, 9-11 maggio 2011
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• A.Chiasera, M. Ferrari, M. Mazzola, S. Varas, E.Moser, S. Valligatla, V. Foglietti, G. Nunzi Conti, S. Pelli, G.C. Righini. (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#titoloVolume

• Atti FOTONICA 2011, 13° Convegno Nazionale delle Tecnologie Fotoniche Genova, Palazzo Ducale, 9-11 maggio 2011. (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• A. Chiasera, M. Ferrari, M. Mazzola, S. Varas [CNR-IFN, CSMFO Lab., via alla Cascata 56/c, 38123 Trento, Italy] E. Moser [Physics Dept., Trento University & CSMFO Lab., via Sommarive 14, 38123 Trento, Italy.] S. Valligatla [CNR-IFN, CSMFO Lab, Trento Univ, & Hyderabad Univ, via Sommarive 14, 38123 Trento, Italy.] V. Foglietti [CNR-IFN, MEMS group, Via Cineto Romano 42, 00156 Roma, Italy.] G. Nunzi Conti, S. Pelli, G.C. Righini [CNR-IFAC, MDF Lab., via Madonna del Piano 10, 50019 Sesto Fiorentino-Firenze, Italy.] (literal)

Titolo

• Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#isbn

• 9788887237122 (literal)

Abstract

• This Paper is an overview of recent advances in photonics structures obtained in erbium-activated glasses fabricated by rf-sputtering technique. The fabrication protocols as well as the spectroscopic assessment of SiO2-HfO2 active waveguides and 1-D microcavity will be presented. (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Sviluppo e diagnostica ottica e spettroscopica di materiali e strutture per la fotonica (MD.P03.012.001) (Modulo)

Autore CNR

• STEFANO VARAS (Unità di personale esterno)
• MAURIZIO MAZZOLA (Persona)
• GUALTIERO NUNZI CONTI (Unità di personale interno)
• STEFANO PELLI (Persona)
• MAURIZIO FERRARI (Unità di personale interno)
• ALESSANDRO CHIASERA (Persona)
• GIANCARLO RIGHINI (Persona)
• VITTORIO FOGLIETTI (Persona)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche" (Insieme di parole chiave)

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Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Sviluppo e diagnostica ottica e spettroscopica di materiali e strutture per la fotonica (MD.P03.012.001) (Modulo)

Autore CNR di

• ALESSANDRO CHIASERA (Persona)
• VITTORIO FOGLIETTI (Persona)
• MAURIZIO FERRARI (Unità di personale interno)
• STEFANO PELLI (Persona)
• GIANCARLO RIGHINI (Persona)
• GUALTIERO NUNZI CONTI (Unità di personale interno)
• MAURIZIO MAZZOLA (Persona)
• STEFANO VARAS (Unità di personale esterno)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Caratterizzazione e fabbricazione con tecnica RF-sputtering di strutture confinate dielettriche" (Insieme di parole chiave)