Growth, structure and epitaxy of ultrathin NiO films on Ag(001) (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Growth, structure and epitaxy of ultrathin NiO films on Ag(001) (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0040-6090(01)01496-1 (literal)

Alternative label

• P. Luches, S. Altieri, C. Giovanardi, T.S. Moia, S. Valeri, F. Bruno, L. Floreano, A. Morgante, A. Santaniello, A. Verdini, R. Gotter, T. Hibma (2001)
  Growth, structure and epitaxy of ultrathin NiO films on Ag(001)
  in Thin solid films (Print); ELSEVIER SCIENCE SA, PO BOX 564, 1001 LAUSANNE (Svizzera)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• P. Luches, S. Altieri, C. Giovanardi, T.S. Moia, S. Valeri, F. Bruno, L. Floreano, A. Morgante, A. Santaniello, A. Verdini, R. Gotter, T. Hibma (literal)

Pagina inizio

• 139 (literal)

Pagina fine

• 143 (literal)

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• http://biblioproxy.cnr.it:2065/10.1016/S0040-6090(01)01496-1 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 400 (literal)

Rivista

• Thin solid films (Rivista)

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• 5 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1-2 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• [ 1 ] INFM, I-41100 Modena, Italy [ 2 ] Univ Modena, Dipartimento Fis, I-41100 Modena, Italy [ 3 ] INFM, Lab TASC, I-34012 Trieste, Italy [ 4 ] Univ Trieste, Dipartimento Fis, Trieste, Italy [ 5 ] Sincrotrone Trieste, I-34012 Trieste, Italy [ 6 ] Univ Groningen, Ctr Mat Sci, NL-9747 AG Groningen, Netherlands (literal)

Titolo

• Growth, structure and epitaxy of ultrathin NiO films on Ag(001) (literal)

Abstract

• NiO ultrathin films have been grown on Ag(001) by Ni deposition in an O-2 atmosphere. The thickness range 5-50 NIL has been investigated. X-ray photoelectron spectroscopy has been used to study the stoichiometric composition and chemical purity of the oxide films. We found completely oxidized stoichiometric NiO films. Their contamination has been found to be limited to the topmost layers. Photoelectron diffraction has given information concerning the local crystal structure of the films. The film atomic geometry has been found to be the same independent of thickness in the 0-50 ML range. The films have the expected (001) rock-salt structure with the same in plane orientation as the Ag(001) substrate. Specular X-ray reflectivity has allowed a very accurate thickness evaluation and has given information on the width of the density gradients at the film-substrate and vacuum-film interfaces, found to be of the order of a few atomic layers. (literal)

Editore

• ELSEVIER SCIENCE SA (Editore)

Prodotto di

• MD.P06.016.001 Proprieta' elettroniche e strutturali di sistemi a bassa dimensionalita' (MD.P06.016.003) (Modulo)

Autore CNR

• SERGIO VALERI (Persona)
• ROBERTO GOTTER (Unità di personale interno)
• PAOLA LUCHES (Persona)
• ALBERTO MORGANTE (Unità di personale interno)
• LUCA FLOREANO (Persona)
• ALBERTO VERDINI (Unità di personale interno)

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Autore CNR di

• PAOLA LUCHES (Persona)
• LUCA FLOREANO (Persona)
• SERGIO VALERI (Persona)
• ALBERTO VERDINI (Unità di personale interno)
• ROBERTO GOTTER (Unità di personale interno)
• ALBERTO MORGANTE (Unità di personale interno)

Prodotto

• MD.P06.016.001 Proprieta' elettroniche e strutturali di sistemi a bassa dimensionalita' (MD.P06.016.003) (Modulo)

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• Thin solid films (Rivista)

Editore di

• ELSEVIER SCIENCE SA (Editore)