Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • Antonietta Taurino, Isabella Farella, Adriano Cola, Mauro Lomascolo, Fabio Quaranta, and Massimo Catalano (2013)
    Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices
    in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures
    (literal)
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  • Antonietta Taurino, Isabella Farella, Adriano Cola, Mauro Lomascolo, Fabio Quaranta, and Massimo Catalano (literal)
Pagina inizio
  • 041805-1 (literal)
Pagina fine
  • 041805-8 (literal)
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  • 31 (literal)
Rivista
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  • 4 (literal)
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  • Istituto per la Microelettronica e i Microsistemi IMM-CNR, Campus Universitario, SP per Monteroni, 73100 Lecce, Italy (literal)
Titolo
  • Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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