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Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Alternative label
Antonietta Taurino, Isabella Farella, Adriano Cola, Mauro Lomascolo, Fabio Quaranta,
and Massimo Catalano (2013)
Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices
in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures
(literal)
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- Antonietta Taurino, Isabella Farella, Adriano Cola, Mauro Lomascolo, Fabio Quaranta,
and Massimo Catalano (literal)
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- Pagina fine
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- Rivista
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- Istituto per la Microelettronica e i Microsistemi IMM-CNR, Campus Universitario, SP per Monteroni,
73100 Lecce, Italy (literal)
- Titolo
- Optimization of electron beam induced deposition process for the fabrication of diode-like Pt/SiO2/W devices (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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