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Ab initio study of phase transition and dielectric constants of high-k HfO2 as a function of Ge alloying (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Ab initio study of phase transition and dielectric constants of high-k HfO2 as a function of Ge alloying (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1103/PhysRevB.85.024109 (literal)
- Alternative label
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Pagina inizio
- Pagina fine
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
- Rivista
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- MDM Laboratory, CNR-IMM, via C. Olivetti 2, IT-20864, Agrate Brianza, Italy (literal)
- Titolo
- Ab initio study of phase transition and dielectric constants of high-k HfO2 as a function of Ge alloying (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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