GeO2-doped SiO2 thin films deposited by RF sputtering: morphology and optical properties (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• GeO2-doped SiO2 thin films deposited by RF sputtering: morphology and optical properties (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Quartarone E., Mustarelli P., Marabelli F., Battagliarin M., Turato (2004)
  GeO2-doped SiO2 thin films deposited by RF sputtering: morphology and optical properties
  
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Quartarone E., Mustarelli P., Marabelli F., Battagliarin M., Turato (literal)

Pagina inizio

• 2234 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 22 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• GeO2-doped SiO2 thin films deposited by RF sputtering: morphology and optical properties (literal)

Prodotto di

• Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia (ICMATE) (Istituto)
• Materiali metallici e ceramici per l'accumulo, la produzione e la distribuzione dell'energia (ET.P06.009.004) (Modulo)

Autore CNR

• PIERCARLO MUSTARELLI (Unità di personale esterno)
• ELIANA QUARTARONE (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia (ICMATE) (Istituto)
• Materiali metallici e ceramici per l'accumulo, la produzione e la distribuzione dell'energia (ET.P06.009.004) (Modulo)

Autore CNR di

• PIERCARLO MUSTARELLI (Unità di personale esterno)
• ELIANA QUARTARONE (Unità di personale esterno)