Raman stress characterization of hetero-epitaxial 3C-SiC free standing structures (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Raman stress characterization of hetero-epitaxial 3C-SiC free standing structures (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.4028/www.scientific.net/MSF.679-680.141 (literal)

Alternative label

• Piluso, N., Camarda, M., Anzalone, R., Severino, A., La Magna, A., D'Arrigo, G., La Via, F. (2011)
  Raman stress characterization of hetero-epitaxial 3C-SiC free standing structures
  in Materials science forum
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Piluso, N., Camarda, M., Anzalone, R., Severino, A., La Magna, A., D'Arrigo, G., La Via, F. (literal)

Pagina inizio

• 141 (literal)

Pagina fine

• 144 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 679-680 (literal)

Rivista

• Materials science forum (Rivista)

Note

• Scopus (literal)

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• CNR-IMM (literal)

Titolo

• Raman stress characterization of hetero-epitaxial 3C-SiC free standing structures (literal)

Abstract

• Raman microscopy has been used to study the stress distribution on 3C-SiC/Si(100) micro-machined free standing structures. Linear scans along different structures reveal similar trends of the TO mode Raman Shift. We have found that, independently of the microstructure considered, the Raman frequency decreases close to the undercut. We compare our experimental measurements with FEM simulations finding that, close to the undercut, the stress tensor becomes non-diagonal, modifying the Raman shift to stress relation. (literal)

Prodotto di

• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)
• GIUSEPPE ALESSIO MARIA D'ARRIGO (Unità di personale interno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Autore CNR di

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• GIUSEPPE ALESSIO MARIA D'ARRIGO (Unità di personale interno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

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• Materials science forum (Rivista)