Stress evaluation on hetero-epitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Stress evaluation on hetero-epitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.4028/www.scientific.net/MSF.717-720.521 (literal)

Alternative label

• Anzalone, R. and Camarda, M. and Locke, C. and Carballo, J. and Piluso, N. and D'Arrigo, G. and Severino, A. and Volinsky, A.A. and Saddow, S.E. and La Via, F. (2012)
  Stress evaluation on hetero-epitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates
  in Materials science forum
  (literal)

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• Anzalone, R. and Camarda, M. and Locke, C. and Carballo, J. and Piluso, N. and D'Arrigo, G. and Severino, A. and Volinsky, A.A. and Saddow, S.E. and La Via, F. (literal)

Pagina inizio

• 521 (literal)

Pagina fine

• 524 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 717-720 (literal)

Rivista

• Materials science forum (Rivista)

Note

• Scopus (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, Tampa University (USA) (literal)

Titolo

• Stress evaluation on hetero-epitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (literal)

Prodotto di

• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• GIUSEPPE ALESSIO MARIA D'ARRIGO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Autore CNR di

• GIUSEPPE ALESSIO MARIA D'ARRIGO (Unità di personale interno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

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• Materials science forum (Rivista)