Correlation between macroscopic and microscopic stress fields: Application to the 3C-SiC/Si heteroepitaxy (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Correlation between macroscopic and microscopic stress fields: Application to the 3C-SiC/Si heteroepitaxy (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1557/jmr.2012.264 (literal)

Alternative label

• Camarda, M. and Anzalone, R. and Severino, A. and Piluso, N. and Canino, A. and La Via, F. and La Magna, A. (2013)
  Correlation between macroscopic and microscopic stress fields: Application to the 3C-SiC/Si heteroepitaxy
  in Journal of materials research
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Camarda, M. and Anzalone, R. and Severino, A. and Piluso, N. and Canino, A. and La Via, F. and La Magna, A. (literal)

Pagina inizio

• 104 (literal)

Pagina fine

• 112 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 28 (literal)

Rivista

• Journal of materials research (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM (literal)

Titolo

• Correlation between macroscopic and microscopic stress fields: Application to the 3C-SiC/Si heteroepitaxy (literal)

Prodotto di

• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Autore CNR di

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of materials research (Rivista)