Stress nature investigation on heteroepitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Stress nature investigation on heteroepitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2013-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1557/jmr.2012.224 (literal)

Alternative label

• Anzalone, R. and Camarda, M. and Locke, C. and Carballo, J. and Piluso, N. and La Magna, A. and Volinsky, A.A. and Saddow, S.E. and La Via, F. (2013)
  Stress nature investigation on heteroepitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates
  in Journal of materials research
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Anzalone, R. and Camarda, M. and Locke, C. and Carballo, J. and Piluso, N. and La Magna, A. and Volinsky, A.A. and Saddow, S.E. and La Via, F. (literal)

Pagina inizio

• 129 (literal)

Pagina fine

• 135 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 28 (literal)

Rivista

• Journal of materials research (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1 (literal)

Note

• Scopus (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM, Tampa University (USA) (literal)

Titolo

• Stress nature investigation on heteroepitaxial 3C-SiC film on (100) Si substrates (literal)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

Autore CNR

• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)
• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Autore CNR di

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• FRANCESCO LA VIA (Unità di personale interno)
• NICOLO' PILUSO (Unità di personale esterno)
• RUGGERO ANZALONE (Unità di personale esterno)
• MASSIMO CAMARDA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Nuovi processi per la produzione di wafer di Carburo di Silicio e nuove applicazioni nell'ambito del fotovoltaico e dei MEMS (MD.P05.009.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of materials research (Rivista)