SURFACE ACOUSTIC WAVE H2 SENSOR ON SILICON SUBSTRATE (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • SURFACE ACOUSTIC WAVE H2 SENSOR ON SILICON SUBSTRATE (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 1988-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1109/ULTSYM.1988.49441 (literal)
Alternative label
  • C. Caliendo (1), A. D'Amico (2), P. Verardi (1), E. Verona (1) (1988)
    SURFACE ACOUSTIC WAVE H2 SENSOR ON SILICON SUBSTRATE
    in IEEE International Ultrasonics Symposium, Chicago, IL (USA), October 2-5, 1988
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • C. Caliendo (1), A. D'Amico (2), P. Verardi (1), E. Verona (1) (literal)
Pagina inizio
  • 569 (literal)
Pagina fine
  • 574 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#altreInformazioni
  • INSPEC Accession Number: 3439392 ISSN: 00905607 CODEN: ULSPD (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#titoloVolume
  • Ultrasonics Symposium Proceedings (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 1 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#volumeInCollana
  • 1 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
  • 6 (literal)
Note
  • Scopu (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • (1) Consiglio Nazionale delle Ricerche, Istituto di Acustica \"0.M.Corbino\" Via Cassia 1216, 1-00189 Roma, Italy (2) Dipartimento di Ingegneria Elettrica, Universiti di L'Aquila, Italy (literal)
Titolo
  • SURFACE ACOUSTIC WAVE H2 SENSOR ON SILICON SUBSTRATE (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#curatoriVolume
  • Editors: McAvoy B.R. (literal)
Abstract
  • A surface acoustic wave (SAW) hydrogen sensor implemented on a silicon (Si) substrate is presented.The device is based on the changes produced in the phase velocity of SAWS propagating along a multilayered Pd/ZnO/Si02 /Si structure, by H2 absorption and desorption in the selectively sorbent Pd film. Several devices have been made and tested. The time response and the sensitivity of the devices, upon exposure to different concentration of HZ in N2 are reported for two different values of the thickness of the Pd film. The frequency of operation, the electrical performances of the device as well as the fabrication technology involved have been optimized in view of a future integration of the electroacoustic structure and of the electric signal processing circuitry on the same Si substrate. (literal)
Editore
Prodotto di
Autore CNR
Insieme di parole chiave

Incoming links:


Autore CNR di
Prodotto
Editore di
Insieme di parole chiave di
data.CNR.it