A low cost high resolution pattern generator for electron beam lithography (Articolo in rivista)

Type
Label
  • A low cost high resolution pattern generator for electron beam lithography (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1063/1.1583861 (literal)
Alternative label
  • G. Pennelli; F. D'Angelo; M. Piotto; G. Barillaro; B. Pellegrini (2003)
    A low cost high resolution pattern generator for electron beam lithography
    in Review of scientific instruments; American Institute of Physics, Woodbury [NY] (Stati Uniti d'America)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • G. Pennelli; F. D'Angelo; M. Piotto; G. Barillaro; B. Pellegrini (literal)
Pagina inizio
  • 3579 (literal)
Pagina fine
  • 3582 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 74 (literal)
Rivista
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo
  • 7 (literal)
Note
  • Scopu (literal)
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • Dipartimento di Ingegneria dell'Informazione: Elettronica, Informatica, Telecomunicazioni, Universita´ di Pisa, 56126 Pisa, Italy Dipartimento di Ingegneria dell'Informazione: Elettronica, Informatica, Telecomunicazioni, Universita´ di Pisa, 56126 Pisa, Italy Istituto di Elettronica e di Ingegneria dell'Informazione e delle Telecomunicazioni, Sezione di Pisa, Consiglio Nazionale delle Ricerche, 56126 Pisa, Italy Dipartimento di Ingegneria dell'Informazione: Elettronica, Informatica, Telecomunicazioni, Universita´ di Pisa, 56126 Pisa, Italy Dipartimento di Ingegneria dell'Informazione: Elettronica, Informatica, Telecomunicazioni, Universita´ di Pisa, 56126 Pisa, Italy (literal)
Titolo
  • A low cost high resolution pattern generator for electron beam lithography (literal)
Abstract
  • A simple, very low cost pattern generator for electron-beam lithography is presented. When it is applied to a scanning electron microscope, the system allows a high precision positioning of the beam for lithography of very small structures. Patterns are generated by a suitable software implemented on a personal computer, by using very simple functions, allowing an easy development of new writing strategies for a great adaptability to different user necessities. Hardware solutions, as optocouplers and battery supply, have been implemented for reduction of noise and disturbs on the voltages controlling the positioning of the beam. (literal)
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