http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID193972
Structure and Morphology of PDI8-CN2 for n-Type Thin-Film Transistors (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Structure and Morphology of PDI8-CN2 for n-Type Thin-Film Transistors (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1002/adfm.201101640 (literal)
- Alternative label
Fabiola Liscio, Silvia Milita, Cristiano Albonetti, Pasquale D'Angelo, Antonietta Guagliardi, Norberto Masciocchi, Raffaele Guido Della Valle, Elisabetta Venuti, Aldo Brillante, Fabio Biscarini (2012)
Structure and Morphology of PDI8-CN2 for n-Type Thin-Film Transistors
in Advanced functional materials (Print)
(literal)
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- Fabiola Liscio, Silvia Milita, Cristiano Albonetti, Pasquale D'Angelo, Antonietta Guagliardi, Norberto Masciocchi, Raffaele Guido Della Valle, Elisabetta Venuti, Aldo Brillante, Fabio Biscarini (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- http://dx.doi.org/10.1002/adfm.201101640 (literal)
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- Rivista
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- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
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- CNR-IMM, Istituto per la Microelettronica, e Microsistemi Via P. Gobetti 101, I-40129 Bologna, Italy
CNR-ISMN, Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati, Via P. Gobetti 101, I-40129 Bologna, Italy
CNR-IC, Istituto di Cristallografia, Via Amendola 122/O, 70126 Bari, Italy
Dipartimento di Scienze Chimiche e Ambientali, Università dell'Insubria, Via Valleggio 11, I-22100 Como, Italy
Dipartimento Chimica Fisica Inorganica, Viale Risorgimento 4, I-40136 Bologna, Italy
Chemistry Department, Imperial College London, Exhibition Road, South Kensington, London SW7 2AZ, UK
Dipartimento di Scienze Chimiche e Ambientali, Università dell'Insubria, Via Valleggio 11, I-22100 Como, Italy (literal)
- Titolo
- Structure and Morphology of PDI8-CN2 for n-Type Thin-Film Transistors (literal)
- Abstract
- A multiscale investigation of N,N?-bis(n-octyl)-x:y,dicyanoperylene-3,4:9,10-bis(dicarboximide), PDI8-CN2, shows the same molecular arrangement in the bulk and in thin films sublimated on SiO2/Si wafers. Non-conventional powder diffraction methods and theoretical calculations concur to provide a coherent picture of the crystalline structure. X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM) analyses of films of different thickness deposited at different substrate temperatures indicate the existence of two temperature-dependent deposition regimes: a low-temperature (room temperature) regime and a high-temperature (80-120 °C) one, each characterized by different growth mechanisms. These mechanisms eventually result in different morphological and structural features of the films, which appear to be highly correlated with the trend of the electrical parameters that are measured in PDI8-CN2-based field-effect transistors. (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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