Thin films deposited by femtosecond pulsed laser ablation of tungsten carbide (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Thin films deposited by femtosecond pulsed laser ablation of tungsten carbide (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1016/j.apsusc.2011.07.077 (literal)
Alternative label
  • A. De Bonis ; R. Teghil ; A. Santagata ; A. Galasso ; J.V. Rau (2012)
    Thin films deposited by femtosecond pulsed laser ablation of tungsten carbide
    in Applied surface science; Elsevier B.V., Amsterdam (Belgio)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • A. De Bonis ; R. Teghil ; A. Santagata ; A. Galasso ; J.V. Rau (literal)
Pagina inizio
  • 9198 (literal)
Pagina fine
  • 9201 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 258 (literal)
Rivista
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo
  • 23 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • Dipartimento di Chimica \"A.M. Tamburro\", Università della Basilicata, Via dell'Ateneo Lucano 10, 85100 Potenza, Italy Istituto Metodologie Inorganiche e Plasmi, CNR, Unità di Potenza, via S. Loja, 85050 Tito Scalo PZ, Italy Istituto di Struttura della Materia, CNR, Via del Fosso del Cavaliere 100, 00133 Rome, Italy Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali - INSTM, Via G. Giusti 9, 00121 Florence, Italy (literal)
Titolo
  • Thin films deposited by femtosecond pulsed laser ablation of tungsten carbide (literal)
Abstract
  • Ultra-short Pulsed Laser Deposition has been applied to the production of thin films from a tungsten carbide target. The gaseous phase obtained by the laser ablation shows a very weak primary plume, in contrast with a very strong secondary one. The deposited films, investigated by Scanning Electron Microscopy, Atomic Force Microscopy, X-Ray Photoelectron Spectroscopy and X-Ray Diffraction, present a mixture of WC and other phases with lower carbon content. All films are amorphous, independently from the substrate temperature. The characteristics of the deposits have been explained in terms of thermal evaporation and cooling rate of molten particles ejected from the target. (literal)
Editore
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