Three-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Three-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2000-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0927-0256(00)00041-0 (literal)

Alternative label

• Bruschi, P. ; Nannini, A.; Piotto, M. (2000)
  Three-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films
  in Computational materials science; Elsevier, Tokyo (Giappone)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Bruschi, P. ; Nannini, A.; Piotto, M. (literal)

Pagina inizio

• 299 (literal)

Pagina fine

• 304 (literal)

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• 17 (literal)

Rivista

• Computational materials science (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 2-4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

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• Dipartimento Ingegneria dell'Informazione, Università di Pisa, Italy (literal)

Titolo

• Three-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films (literal)

Abstract

• The effects of electromigration in metal thin films is studied by means of atomistic Monte Carlo simulations. The simulator is based on a model of atom diffusion particularly suited to deal with polycrystalline three-dimensional films. Interatomic interactions are estimated by means of a simplified Morse potential while the driving force exerted by the charge carrier flux is represented as a perturbation on the diffusion activation barrier. The local current density is calculated using an equivalent resistor network. The results of simulated stress applied to various samples including a triple point are presented demonstrating the possibility of reproducing the initial stage of void formation with an atomistic model. (literal)

Editore

• Elsevier (Editore)

Prodotto di

• Istituto di elettronica e di ingegneria dell'informazione e delle telecomunicazioni (IEIIT) (Istituto)

Autore CNR

• MASSIMO PIOTTO (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di elettronica e di ingegneria dell'informazione e delle telecomunicazioni (IEIIT) (Istituto)

Autore CNR di

• MASSIMO PIOTTO (Persona)

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• Computational materials science (Rivista)

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• Elsevier (Editore)