Ultrathin ?microc-Si films deposited by PECVD (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Ultrathin ?microc-Si films deposited by PECVD (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0040-6090(00)01595-9 (literal)

Alternative label

• R. Rizzoli?; C. Summonte; J. Pla'; E. Centurioni; G. Ruani; A. Desalvo; F. Zignani (2001)
  Ultrathin ?microc-Si films deposited by PECVD
  in Thin solid films (Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• R. Rizzoli?; C. Summonte; J. Pla'; E. Centurioni; G. Ruani; A. Desalvo; F. Zignani (literal)

Pagina inizio

• 7 (literal)

Pagina fine

• 10 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 383 (literal)

Rivista

• Thin solid films (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 4 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• R. Rizzoli_a?, C. Summonte_a, J. Pla´_a, E. Centurioni_a, G. Ruani_b, A. Desalvo_c, F. Zignani_c aCNR-LAMEL,?ia Gobetti 101, I-40129 Bologna, Italy bCNR-ISM, ?ia Gobetti 101, I-40129 Bologna, Italy cDICASM, Bologna Uni?ersity, Bologna, Italy (literal)

Titolo

• Ultrathin ?microc-Si films deposited by PECVD (literal)

Abstract

• The crystalline fraction of microcrystalline silicon films 18-200 nm thick, deposited by VHF plasma and by chemical transport deposition (CTD) was characterized by Raman and optical measurements. On a p-type CTD sample, thinner than 20 nm, a crystalline fraction as large as 78%, to our knowledge the largest obtained by VHF plasma on p-type films in this thickness range, was measured. Transmission electron microscopy shows crystallites extending to the interface with the substrate. Electrical conductivities in the range 10(-2)-10(0) S/cm, and 10(-1)-10(1) S/cm after annealing at 250 degreesC, were measured. Weak dependence of crystalline fraction and electrical properties on thickness was observed. (literal)

Prodotto di

• dispositivi multifunzionali avanzati basati su nanostrutture organiche e ibride e loro investigazione mediante sonde ottiche non convenzionali (DIMO) (PM.P04.007.001) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• CATERINA SUMMONTE (Persona)
• GIAMPIERO RUANI (Persona)
• RITA RIZZOLI (Persona)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Ultrathin ?microc-Si films deposited by PECVD" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• RITA RIZZOLI (Persona)
• CATERINA SUMMONTE (Persona)
• GIAMPIERO RUANI (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• dispositivi multifunzionali avanzati basati su nanostrutture organiche e ibride e loro investigazione mediante sonde ottiche non convenzionali (DIMO) (PM.P04.007.001) (Modulo)

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• Thin solid films (Rivista)

Insieme di parole chiave di

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