Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2004-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1007/s00339-004-2785-9 (literal)

Alternative label

• S. Amoruso (1,2); C. Altucci (1,2); R. Bruzzese (1,2); C. de Lisio (1,2); N. Spinelli (2); R. Velotta (1,2); M. Vitiello (1,2); X. Wang (1) (2004)
  Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets
  in Applied physics. A, Materials science & processing (Print); SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, NY 10013 (Stati Uniti d'America)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• S. Amoruso (1,2); C. Altucci (1,2); R. Bruzzese (1,2); C. de Lisio (1,2); N. Spinelli (2); R. Velotta (1,2); M. Vitiello (1,2); X. Wang (1) (literal)

Pagina inizio

• 1377 (literal)

Pagina fine

• 1380 (literal)

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• http://www.springerlink.com/content/42mjtmkmb6etjjq0/?MUD=MP (literal)

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• 79 (literal)

Rivista

• Applied physics. A, Materials science & processing (Rivista)

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• 4 (literal)

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• 4-6 (literal)

Note

• Scopu (literal)
• ISI Web of Science (WOS) (literal)

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• (1) Coherentia-INFM, Complesso Universitario di Monte S. Angelo, Ed. G Via Cintia, 80126 Napoli, Italy (2) Istituto Nazionale per la Fisica della Materia (INFM) - Unità di Napoli and Dipartimento di Scienze Fisiche, Università degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Universitario di Monte S. Angelo, Via Cintia, 80126 Napoli, Italy (literal)

Titolo

• Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets (literal)

Abstract

• Ti:sapphire femtosecond laser ablation of silicon has been investigated by Langmuir probe and time-gated optical emission spectroscopy. The measured spectra show the presence of a fast ion population preceding the main plume core of slow ions and neutrals produced by a thermal ablation mechanism. By analyzing the fluence thresholds for the emission of the two ion populations, we provide clear experimental evidence that fast ions are ejected non-thermally from the sample surface as a result of the Si surface supercritical state induced by the intense ultrashort laser pulse irradiation. (literal)

Editore

• SPRINGER, 233 SPRING ST (Editore)

Autore CNR

• SALVATORE AMORUSO (Unità di personale esterno)
• XUAN WANG (Unità di personale interno)
• CORRADO DE LISIO (Unità di personale esterno)
• RICCARDO BRUZZESE (Persona)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

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• XUAN WANG (Unità di personale interno)
• SALVATORE AMORUSO (Unità di personale esterno)
• RICCARDO BRUZZESE (Persona)

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• Applied physics. A, Materials science & processing (Rivista)

Editore di

• SPRINGER, 233 SPRING ST (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Study of the plasma plume generated during near IR femtosecond laser irradiation of silicon targets" (Insieme di parole chiave)