Plasma ehnancement of metalorganic chemical vapor deposition and properties of Er2O3 nanostructured thin films (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Plasma ehnancement of metalorganic chemical vapor deposition and properties of Er2O3 nanostructured thin films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• M.M. Giangregorio, M. Losurdo, A. Sacchetti, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, I.L. Fragalà, R. Lo Nigro, L. Armelao, D. Barreca, E. Tondello (2007)
  Plasma ehnancement of metalorganic chemical vapor deposition and properties of Er2O3 nanostructured thin films
  in Applied physics letters
  (literal)

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• M.M. Giangregorio, M. Losurdo, A. Sacchetti, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, I.L. Fragalà, R. Lo Nigro, L. Armelao, D. Barreca, E. Tondello (literal)

Pagina inizio

• 061923-1 (literal)

Pagina fine

• 061923-3 (literal)

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• citata sul Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology (literal)

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• 91 (literal)

Rivista

• Applied physics letters (Rivista)

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• 3 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

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• 1,2,3,4,5: Institute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, IMIP-CNR, via Orabona, 4, 70126 Bari, Italy and INSTM-UdR Bari, via Orabona, 4, 70126 Bari, Italy 6,7: Dipartimento di Scienze Chimiche, Università di Catania, Viale A. Doria 6, 95125 Catania, Italy 8: Institute for Microelectronics and Microsystems, IMM-CNR, Stradale Primosole n 50, 95121 Catania, Italy 9,10,11: ISTM-CNR and INSTM, University of Padova, via Marzolo, 1, 35131 Padova, Italy (literal)

Titolo

• Plasma ehnancement of metalorganic chemical vapor deposition and properties of Er2O3 nanostructured thin films (literal)

Abstract

• An O2 remote plasma metal organic chemical vapor deposition ?RP-MOCVD? route is presented for tailoring the structural, morphological, and optical properties of Er2O3 thin films grown on Si?100? using the tris?isopropylcyclopentadienyl?erbium precursor. The RP-MOCVD approach produced highly ?(100)?-oriented, dense, and mechanically stable Er2O3 films with columnar structure. (literal)

Prodotto di

• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Istituto di scienze e tecnologie molecolari (ISTM) (Istituto)
• Progettazione molecolare di nanosistemi organizzati (PM.P05.007.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• DAVIDE BARRECA (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• LIDIA ARMELAO (Unità di personale interno)
• EUGENIO TONDELLO (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di scienze e tecnologie molecolari (ISTM) (Istituto)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)
• Progettazione molecolare di nanosistemi organizzati (PM.P05.007.001) (Modulo)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• DAVIDE BARRECA (Persona)
• LIDIA ARMELAO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)
• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• EUGENIO TONDELLO (Persona)

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• Applied physics letters (Rivista)