http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID174097
Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno)
- Type
- Label
- Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno) (literal)
- Anno
- 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Alternative label
Cattarin S. , Guerriero P., Musiani M.,Tuissi A. ,Vázquez-Gómez L. (2010)
Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium
in Giornate dell' Elettrochimica Italiana GEI ERA 2010, Modena (Italy)
(literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Cattarin S. , Guerriero P., Musiani M.,Tuissi A. ,Vázquez-Gómez L. (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto
- Atti del convegno, Abstract O28 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- 1. Istituto per lEnergetica e le Interfasi (IENI) CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy
2. Istituto di Chimica Inorganica e delle Superfici (ICIS) - CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy
3. Istituto per lEnergetica e le Interfasi (IENI) CNR, Unità di Lecco, Corso Promessi Sposi 29, 23900 LECCO, Italy (literal)
- Titolo
- Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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