Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno)

Type
Label
  • Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno) (literal)
Anno
  • 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • Cattarin S. , Guerriero P., Musiani M.,Tuissi A. ,Vázquez-Gómez L. (2010)
    Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium
    in Giornate dell' Elettrochimica Italiana GEI – ERA 2010, Modena (Italy)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Cattarin S. , Guerriero P., Musiani M.,Tuissi A. ,Vázquez-Gómez L. (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto
  • Atti del convegno, Abstract O28 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • 1. Istituto per l’Energetica e le Interfasi (IENI) – CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy 2. Istituto di Chimica Inorganica e delle Superfici (ICIS) - CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy 3. Istituto per l’Energetica e le Interfasi (IENI) – CNR, Unità di Lecco, Corso Promessi Sposi 29, 23900 LECCO, Italy (literal)
Titolo
  • Low hazard anodic etching of NiTi in neutral fluoride medium (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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