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Additive nanoscale embedding of functional nanoparticles on silicon surface (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- Additive nanoscale embedding of functional nanoparticles on silicon surface (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1039/c0nr00315h (literal)
- Alternative label
Cavallini, Massimiliano(1); Simeone, Felice C.(1); Borgatti, Francesco (1); Albonetti, Cristiano(1); Morandi, Vittorio(2); Sangregorio, Claudio(3); Innocenti, Claudia(4); Pineider, Francesco(5); Annese, Emilia(6); Panaccione, Giancarlo(6); Pasquali, Luca(7) (2010)
Additive nanoscale embedding of functional nanoparticles on silicon surface
in Nanoscale (Print)
(literal)
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- Cavallini, Massimiliano(1); Simeone, Felice C.(1); Borgatti, Francesco (1); Albonetti, Cristiano(1); Morandi, Vittorio(2); Sangregorio, Claudio(3); Innocenti, Claudia(4); Pineider, Francesco(5); Annese, Emilia(6); Panaccione, Giancarlo(6); Pasquali, Luca(7) (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- http://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2010/nr/c0nr00315h (literal)
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- Rivista
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- DOI: 10.1039/c0nr00315h
Il titolo della rivista è: NANOSCALE (literal)
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- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- 1. CNR ISMN, I-40129 Bologna, Italy
2. CNR IMM Bologna, I-4012 Bologna, Italy
3. CNR ISTM Milano, I-20133 Milan, Italy
4. Univ Florence, INSTM, I-50019 Sesto Fiorentino, FI Italy
5. Univ Florence, Dep Chem U Schiff, I-50019 Sesto Fiorentino, FI Italy
6. CNR INFM TASC SS, I-34149 Basovizza, TS Italy
7. Univ Modena & Reggio Emilia, Dep Mat & Environm Engn, I-41100 Modena, Italy (literal)
- Titolo
- Additive nanoscale embedding of functional nanoparticles on silicon surface (literal)
- Abstract
- We present a novel additive process, which allows the spatially controlled integration of nanoparticles (NPs) inside silicon surfaces. The NPs are placed between a conductive stamp and a silicon surface; by applying a bias voltage a SiO2 layer grows underneath the stamp protrusions, thus embedding the particles. We report the successful nanoembedding of CoFe2O4 nanoparticles patterned in lines, grids and logic structures. (literal)
- Prodotto di
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