Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide). (Risultati di valorizzazione applicativa)

Type
Label
  • Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide). (Risultati di valorizzazione applicativa) (literal)
Anno
  • 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • A.Pecora, L. Mariucci, M. Cuscunà, A. Minotti, L. Maiolo, G. Fortunato (2007)
    Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide).
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • A.Pecora, L. Mariucci, M. Cuscunà, A. Minotti, L. Maiolo, G. Fortunato (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#proprieta
  • IMM Roma (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#riferimentiUtilizzatori
  • Il processo di realizzazione di TFT a silicio policristallino su substrato plastico è stato sviluppato nell'ambito del laboratorio pubblico-privato PLAST_IC, coordinato da ST-Microelectronics. Tale processo risulta di notevole interesse industriale ed è previsto un trasferimento tecnologico a ST. (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • IMM-CNR sede di Roma (literal)
Titolo
  • Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide). (literal)
Prodotto di
Autore CNR

Incoming links:


Autore CNR di
Prodotto
data.CNR.it