Real time investigation of the growth of silicon carbide nanocrystals on Si (100) using synchroton X-ray diffraction (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Real time investigation of the growth of silicon carbide nanocrystals on Si (100) using synchroton X-ray diffraction (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.apsusc.2007.09.004 (literal)

Alternative label

• S. Milita; M. De Santis; D. Jones; A. Parisini; V. Palermo (2008)
  Real time investigation of the growth of silicon carbide nanocrystals on Si (100) using synchroton X-ray diffraction
  in Applied surface science; ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM, NETHERLANDS, AMSTERDAM (Paesi Bassi)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• S. Milita; M. De Santis; D. Jones; A. Parisini; V. Palermo (literal)

Pagina inizio

• 2162 (literal)

Pagina fine

• 2167 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433207012809 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 254 (literal)

Rivista

• Applied surface science (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 7 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1. CNR, IMM, I-40129 Bologna, Italy 2. CNRS, Inst Neel, F-38042 Grenoble, France 3. CNR, ISOF, I-40129 Bologna, Italy (literal)

Titolo

• Real time investigation of the growth of silicon carbide nanocrystals on Si (100) using synchroton X-ray diffraction (literal)

Abstract

• The growth of silicon carbide nanocrystals on Si(1 0 0) is studied by synchrotron surface X-ray diffraction (SXRD) during annealing at high temperature. A chemisorbed methanol monolayer is used as carbon source, allowing to have a fixed amount of carbon atoms to feed the growth. At room temperature, minor changes in the 2 × 1 reconstruction of silicon are observed due to the formation of Si-O-CH3 and Si-H bonds from methanol molecules. When annealed at 500 °C, carbon incorporation into the silicon leads only to local modifications of the surface structure. Above 600 °C, tri-dimensional silicon carbide nanocrystals growth takes place, together with surface roughening and sharp decrease of domain sizes of the 2 × 1 reconstruction. The different processes taking place at each temperature are clearly distinguished and identified during the real time SXRD measurements. (literal)

Editore

• ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM, NETHERLANDS (Editore)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Institute for organic syntheses and photoreactivity (ISOF) (Istituto)
• MAteriali Funzionali Organici per applicazioni High-Tech: sistemi molecolari, supramolecolari e bioibridi (MAFO-HT) (PM.P04.003.003) (Modulo)
• Sviluppo di Modelli Fisici, Simulazioni e Tecniche di Caratterizzazione per le Nanoscienze (MD.P05.004.001) (Modulo)

Autore CNR

• DEREK JONES (Unità di personale interno)
• SILVIA MILITA (Persona)
• VINCENZO PALERMO (Persona)
• ANDREA PARISINI (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Institute for organic syntheses and photoreactivity (ISOF) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di Modelli Fisici, Simulazioni e Tecniche di Caratterizzazione per le Nanoscienze (MD.P05.004.001) (Modulo)
• MAteriali Funzionali Organici per applicazioni High-Tech: sistemi molecolari, supramolecolari e bioibridi (MAFO-HT) (PM.P04.003.003) (Modulo)

Autore CNR di

• VINCENZO PALERMO (Persona)
• SILVIA MILITA (Persona)
• ANDREA PARISINI (Unità di personale interno)
• DEREK JONES (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Applied surface science (Rivista)

Editore di

• ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM, NETHERLANDS (Editore)