Chemical composition and local structure of plasma enhanced chemical vapor-deposited Si nanodots and their embedding silica matrix (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Chemical composition and local structure of plasma enhanced chemical vapor-deposited Si nanodots and their embedding silica matrix (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

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• 10.1063/1.1543641 (literal)

Alternative label

• G. Dalba, N. Daldosso, P. Fornasini, R. Grisenti, L. Pavesi, F. Rocca, G. Franzò, F. Priolo, F. Iacona (2003)
  Chemical composition and local structure of plasma enhanced chemical vapor-deposited Si nanodots and their embedding silica matrix
  in Applied physics letters
  (literal)

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• G. Dalba, N. Daldosso, P. Fornasini, R. Grisenti, L. Pavesi, F. Rocca, G. Franzò, F. Priolo, F. Iacona (literal)

Pagina inizio

• 889 (literal)

Pagina fine

• 891 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 82 (literal)

Rivista

• Applied physics letters (Rivista)

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• 3 (literal)

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• 6 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

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• Univ Trento, Ist Nazl Fis Mat, Via Sommarive 14, I-38050 Trento, Italy. Univ Trento, Dipartimento Fis, I-38050 Trento, Italy CNR, Ist Foton & Nanotecnol, CeFSA Trento, I-38050 Trento, Italy Univ Catania, Ist Nazl Fis Mat, I-95129 Catania, Italy Univ Catania, Dipartimento Fis, I-95129 Catania, Italy CNR IMM, Sez Catania, I-95121 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Chemical composition and local structure of plasma enhanced chemical vapor-deposited Si nanodots and their embedding silica matrix (literal)

Abstract

• X-ray absorption measurements in total electron yield mode have been carried out on Si nanodots embedded in amorphous silica produced by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The amount of Si atoms composing the Si nanodots and the chemical composition of the amorphous host matrix has been determined thanks to the comparison with Rutherford backscattering spectrometry data. The influence of nitrogen, incorporated during the PECVD procedure, on the structure of the host silica matrix has been discussed. (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• GIORGIA FRANZO' (Unità di personale interno)
• FABIO SANTO IACONA (Persona)

Incoming links:

Autore CNR di

• GIORGIA FRANZO' (Unità di personale interno)
• FABIO SANTO IACONA (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)

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• Applied physics letters (Rivista)