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N,N-Dialkylcarbamato derivatives of niobium and tantalum as precursors to metal-functionalized silica surfaces (Articolo in rivista)
- Type
- Label
- N,N-Dialkylcarbamato derivatives of niobium and tantalum as precursors to metal-functionalized silica surfaces (Articolo in rivista) (literal)
- Anno
- 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1016/j.ica.2010.09.028 (literal)
- Alternative label
Forte, Claudia; Pampaloni, Guido; Pinzino, Calogero; Renili, Filippo (2011)
N,N-Dialkylcarbamato derivatives of niobium and tantalum as precursors to metal-functionalized silica surfaces
in Inorganica Chimica Acta (Testo stamp.); ELSEVIER SCIENCE, Losanna (Svizzera)
(literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Forte, Claudia; Pampaloni, Guido; Pinzino, Calogero; Renili, Filippo (literal)
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- Pagina fine
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- Rivista
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- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
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- University of Pisa; Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR) (literal)
- Titolo
- N,N-Dialkylcarbamato derivatives of niobium and tantalum as precursors to metal-functionalized silica surfaces (literal)
- Abstract
- Chemical implantation of Group 5 cations [Nb(III), Nb(V), and Ta(V)] has been carried out under mild conditions by the reaction of N,N-dialkylcarbamato derivatives M(O2CNR2)(n) (M = Nb, Ta)with silanol groups of amorphous silica, carbon dioxide, and secondary amine being released in the process. The amount of supported cations depends on the metal and on the initial number of N, N-dialkylcarbamato ligands on M; partial reduction to the +4 oxidation state occurs in the case of Nb(O2CNR2)(5). (C) 2010 Elsevier B. V. All rights reserved. (literal)
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